1、高能量火花等离子电源系统

高能量范围、高可靠性等离子电源系统释放高质量电火花。

可分析各类基体，对难激发的铸铁、铸铝类材料分析有独特优势。

2、高性能光学系统

业内高焦距和分辨率的光学系统AES998提供了强大的光谱分析平台，光谱分析精度高、可靠性强；光学系统稳定，校正周期长。

3、激发台设计优化

采用动态、静态氩气结合的氩气气流设计，确保分析时无需热机，及时分析样品；并且待机时低气流量消耗，节省氩气。

优化的氩气吹扫气流设计有效排出金属蒸汽，促进电火花稳定释放。

防护门设计有效隔绝噪声和电磁干扰，防止未放样品误激发，为测试人员保驾护航。

4、用户体验便捷化

从样品处理到仪器操作，过程设计简单易操作，兼职人员可日常操作。

WINLAB软件系统可视化操作设计，操作和维护功能一目了然，测试人员可快速学习和操作。

5、硬件状态监控保护

实时监控、显示仪器状态，超出状态范围时自动保护仪器系统

技术参数

光学系统：

1、光学结构：Paschen-Runge结构；

2、光栅焦距：998.8mm；

3、凹面光栅：刻线密度：2160gr/mm，色散率0.47nm/mm(1级)；

4、狭缝宽度：入射狭缝：20μm；出射狭缝：35-100μm；

5、光室填充：真空型（真空度≤3Pa）或空气型、恒温控制（36±0.1°C）；

6、谱线范围：170-780nm（真空），190-780nm（空气）；

7、多通道：48个；

8、探测器：Φ13mm、Φ28mm，10级侧窗型光电倍增管结合CMOS检测器；

激发台：

1、类型：氩气冲洗，保护门设计；

2、特殊样品：可提供小样品夹具；

火花电源：

1、类型：高能预火花技术（HEPS）；

2、软件：书豪WINLAB软件，可自动计算、校准、存储；

3、氩气：纯度大于99.999%；

4、尺寸：长180 mm0 x 宽1050 mm x 高1245 mm；

5、重量：约 500 kg；

6、环境要求：室温15-30℃；

7、电源：220V +/- 10%，单相，50/60 Hz，独立地线；